$40 млн инвестиций на создание прототипа лазера нового класса, производящего микросхемы, привлек стартап XLight из Кремниевой долины 22 июля сообщает Reuters.

По словам изобретателей, новый лазер XLight способен вернуть лидерство США в области производства микросхем, которую активно, с опережением, развивает Китай.

Лазер основан на тех же технологиях, что и массивные ускорители частиц, используемые в национальных лабораториях США для фундаментальных физических исследований. Он будет применяться в установках для литографии в экстремальном ультрафиолетовом (EUV) диапазоне для создания наиболее компактных и мощных чипов.

«Это самый дорогой инструмент на фабрике. Именно он влияет на стоимость пластины больше, чем любой другой инструмент на фабрике, и именно он влияет на производительность больше, чем любой другой инструмент на фабрике», — заявил Николас Келез, генеральный директор xLight, в штаб-квартире компании в Пало-Альто.

Компания XLight ставит своей целью увеличить производительность микросхем на так называемых «фабриках», сделать микрочипы более дешевыми и скоростными.

На усовершенствование технологии EUV у индустрии микросхем ушли десятилетия, а европейская ASML, с которой XLight сотрудничает, в данный момент является единственным поставщиком данной технологии в мире.

Ранее фирма Cymer усовершенствовала первую технологию EUV-лазера и была приобретена компанией ASML более десяти лет назад за $2,5 млрд. В итоге, ASML заняла доминирующее положение на рынке лазерных установок для микросхем.